Vishay為其定制薄膜基板增加側(cè)邊圖形

    2015-03-10 15:13 來源:電子信息網(wǎng) 作者:鈴鐺

    Vishay Intertechnology, Inc.(NYSE 股市代號:VSH)宣布,其定制薄膜基板新增加一種側(cè)邊圖形化---SDWP基板,使Vishay能夠用小的線路寬度和間隔尺寸,在基板的最多4個表面上制造出導電圖形,可在國防、航天、醫(yī)療和電信設備里提高設計靈活性和密度,以實現(xiàn)小型化。

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    不像采用鍍層或填孔的傳統(tǒng)方法,Vishay Dale Resistors Electro-Films產(chǎn)品線使用能在側(cè)邊和上表面進行芯片粘結(jié)或引線鍵合的SDWP基板。與引線鍵合相比,側(cè)邊圖形連接的電感更低,因此在高頻下工作得更好,使得這些器件非常適合機電或光電應用里的定制電路,射頻應用中的高頻電路,以及高比特率收發(fā)器(TOSA/ROSA)。

    使用這種基板,設計者可以在芯片的上表面和下表面之間實現(xiàn)連續(xù)的導電圖形,把引線鍵合連到芯片側(cè)邊的印制線上,或用pin腳與芯片的側(cè)邊實現(xiàn)接觸。SDWP還能讓設計者把芯片安裝在基板上,在直立組裝中定位基板的位置,且引線鍵合放到變成基板“上表面”的地方,這樣就能與產(chǎn)品里的光纖、棱鏡和透鏡等光學元件實現(xiàn)更好的集成。

    SDWP基板的鍍層厚度小于0.025英寸,最小線寬和間隔小于0.003英寸,線寬和間隔公差低至±0.001英寸。與厚膜方案相比,薄膜器件的導線寬度和間隔尺寸小2到3倍,并且尺寸公差更嚴。基板使用了多種金屬材料,包括TiW/Au/Au鍍層、TiW/Au/Ni鍍層/Au鍍層,以及Cr/Cu/Cu鍍層/Ni鍍層/Au鍍層。

    SDWP基板現(xiàn)可提供樣品,并已實現(xiàn)量產(chǎn),供貨周期為四周。

    Vishay

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